J. P.; Yu。

Y . Nonchemically-amplified resists based on photosensitive oxime ester functionalized polystyrene . Acta Polymerica Sinica ，其中酰氧基自由基进一步发生脱羧反应生成二氧化碳和新的甲苯自由基 (CH3-Ph·) ， 图 2 POXE-P 光刻胶薄膜曝光机理 上述工作 即将以 研究论文 的形式在 《高分子学报》 2024 年印刷出版， 60 s ； (b) 后烘 100 °C，两种聚合物均具有良好的溶解性、热稳定性和成膜性， 该研究为提高非化学放大型光刻胶的灵敏度提供了一种新的思路， doi: 10.11777/j.issn1000-3304. 2024.24065